无溶剂反应釜清洗方案
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无溶剂反应釜清洗方案（无溶剂反应釜清洗方案怎么写）
半导体工艺废气电加热解决方案和其技术特点 掺杂工艺：热扩散与离子注入工艺产生的主要废气为含磷烷、砷烷的酸性废气。清洗工艺：酸、碱与有机溶剂的使用产生废气，清洗液种类根据去除对象的不同而变化。半导体废气处理技术与系统：废气通过分类密闭收集，分为酸性、碱性、有机、一般尾气等。处理系统包括本地（POU）与中央处理系统。 优点：适合于温度低、中高浓度的废气，能够有选择性地吸收硫化氢等废气，工艺流程简单
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